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半導(dǎo)體
射頻
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CCP（電容性耦合的等離子體源）刻蝕機(jī)可覆蓋65nm到5nm及更先進(jìn)制程的邏輯芯片。
ICP（電感性耦合的等離子體源）刻蝕機(jī)則涵蓋14nm到5nm制程。
進(jìn)一步了解東能
感受東能助力工業(yè)科技轉(zhuǎn)型 暢導(dǎo)能源產(chǎn)業(yè)綠色發(fā)展
東能(沈陽)能源工程技術(shù)有限公司
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